光刻机Mask Aligner 又名掩模对准曝光机，曝光系统，光刻系统等常用的光刻机是掩膜对准光刻，所以叫 Mask Alignment System是指在硅片表面匀胶，然后将掩模版上的图形转移光刻胶上的过程将器件或电路结构临时“复制。

一用途 光刻机是芯片制造的核心设备之一，按照用途可以分为好几种有用于生产芯片的光刻机有用于封装的光刻机还有用于LED制造领域的投影光刻机用于生产芯片的光刻机是中国在半导体设备制造上最大的短板，国内晶圆。

光刻机Mask Aligner 又名掩模对准曝光机，曝光系统，光刻系统等，是制造芯片的核心装备它采用类似照片冲印的技术，把掩膜版上的精细图形通过光线的曝光印制到硅片上高端的投影式光刻机可分为步进投影和扫描投影光刻。

光刻机Mask Aligner 又名掩模对准曝光机，曝光系统，光刻系统等常用的光刻机是掩膜对准光刻，所以叫 Mask Alignment SystemPhotolithography光刻 意思是用光来制作一个图形工艺在硅片表面匀胶，然后将掩模版。

一台光刻机可以制造很少的芯片相信大多数人都清楚，光刻机的用途是刻字光刻机是生产手机芯片的重要机器之一目前，只有少数国家可以生产光刻机，只有荷兰ASML公司可以生产高精度光刻机，而且荷兰ASML公司垄断了全球高精度。

光刻机涉及到的知识有光学机械加工电子电路化学等多个学科知识光刻机的主要性能指标有支持基片的尺寸范围，分辨率对准精度曝光方式光源波长光强均匀性生产效率等分辨率是对光刻工艺加工可以达到的最细。

根据网上资料显示，一台光刻机一天大约可以有效制造600块左右，一年就可以制造差不多219万块芯片光刻机为什么会如此的重要目前，无论是手机芯片汽车芯片还是其他领域，包括军事航空航天等应用，芯片都离不开光刻现。

中国有自己的光刻机，由中国科学院光电技术研究所承担的国家重大科研装备研制项目“超分辨光刻装备研制”通过验收，这是世界上首台用紫外光实现了22nm分辨率的超分辨光刻装备，为纳米光学加工提供了全新的解决途径在光电所的。

1822年法国人Nicephoreniepce发明了光刻机，在早期阶段其功能简单，而且使用的材料也是较为粗糙的，通过材料光照实验之后，Nicephoreniepce发现能够复制一种刻着在油纸上的印痕，而在其出现在玻璃片上后，经过一段时间的日晒，其。