对准系统共有两套，具备调焦功能主要就是由双目双视场对准显微镜主体目镜和物镜各1对光刻机通常会提供不同放大倍率的目镜和物镜供用户组合使用CCD对准系统作用是将掩模和样片的对准标记放大并成像于监视器上工件。

光刻机有三大核心部件，EUV光源双工件台光学镜头EUV光刻机零部件高达十万个，涉及面广，28纳米以下制程的EUV光刻机至少需要3至10的攻关突破衡量指标就是数值孔径NA，一般透镜数值孔径越大，收光能力越大分辨。

1华为无法独立研发制造光刻机 光刻机是一个复杂的系统工程，其自身拥有多个核心子系统，每个系统可以说都需要全球顶尖的技术实现，比如双工件台浸液系统物镜系统准分子激光光源等等这些子系统以华为自有技术完全是搞不定的，没有。