1、这里涉及到一种ldquo卡脖子rdquo技术mdashmdash光刻机下面讨论一下光刻机市场供不应求的原因EUV光刻又叫做极紫外光刻，生产技术难度大，经济成本高，而高性能的芯片由需要使用EUV光刻机进行生产有数据显示。

2、90nm国产光刻机是目前我国最先进的光刻机，属于国家重大科技攻关项目但是，5nm工艺和极紫外光刻机都是高端货好吗，换句话说，全球也就是苹果华为高通等一只手都能数得出来的厂家在玩，即使这些土豪金厂家，也不是。

3、根据公告，阿斯麦上海是ASML Holding NV的附属公司之一而荷兰公司ASML是全球最大的光刻机制造商，光刻机是芯片制造所需的关键设备ASML在45nm以下制程的高端光刻机市场中占有85%的份额在EUV极紫外光刻机领域则。

4、中国日本荷兰在能够制造机器的这几家公司中，尤其以荷兰ASML技术最为先进价格也最为高昂光刻机的技术门槛极高，堪称人类智慧集大成的产物目前在全球45纳米以下高端光刻机市场当中，荷兰ASML市场占有率达到80%。

5、主要是不能进口高端极紫外光euv光刻机，而中低端duv光刻机可以进口及自己生产最高端的光刻机现在不能进口了，主要是美国不让荷兰出口光刻机给中国最先造光刻机的是日本的尼康，就是很多专业摄影师用的相机机牌子。

6、还有一个可能性，用美国科学家发明发明的利用空心玻璃毛细管束聚焦X射线的方法聚焦极紫外光，这种方法用在光刻机上就不再需要光学镜头 所以我个人认为，现在研发出8nm光刻机的可能性存在，但是这么快还是让人惊讶，或者对我来说说可信度。

7、这种投影要求精度非常高，甚至一点点的震动都可能照成不可挽回的次品出现因此，光刻机在光刻时需要在真空条件下进行同时，光刻的光源要求十分苛刻光刻机分为紫外光源UV深紫外光源DUV极紫外光源EUV按。

8、芯片制造，中芯国际量产14纳米，有望突破7纳米华虹半导体也已经初步量产14纳米跟最先进的台积电和三星半导体比还有很大的差距，差距一代多光刻机，我们可以完全自主量产90纳米光刻机现在最先进的极紫外光刻机只有荷兰。