1、光刻机是用于制造集成电路的关键设备，它可以将芯片设计图案转移到硅片上关于quot2000iquot的具体规格和技术参数，需要具体参考ASML公司发布的官方资料而关于quot多少纳米quot的问题，可能是指该型号的光刻机可以实现的最小特征尺寸。

2、28纳米根据中国人民网显示，2023年中国已经成功研发出国产第一台28纳米nm光刻机，该光刻机预计在年底能够交付使用。

3、7纳米全世界只有荷兰能够制造顶级的光刻机，ASML更是步入5纳米的光刻机时代，在荷兰规定可以销售的光刻机中，能够支持7纳米工艺制程。

4、中国日本荷兰在能够制造机器的这几家公司中，尤其以荷兰ASML技术最为先进价格也最为高昂光刻机的技术门槛极高，堪称人类智慧集大成的产物目前在全球45纳米以下高端光刻机市场当中，荷兰ASML市场占有率达到80%。

5、我们日常使用的手机里面的芯片就是光刻机制造出来的，光刻机是芯片制造过程当中一个重要的环节，光刻机直接决定着芯片的质量而我国作为全球最大的芯片消费国之一，光每年进口的芯片都高达几万亿人民币光刻机是芯片制造。

6、是90纳米查询官网可以知道，如今最先进的光刻机是600系列，光刻机最高的制作工艺可以达到90纳米但是相比于荷兰ASML公司旗下的EUV光刻机，最高可以达到5纳米的工艺制作而且即将推出3纳米工艺制作的芯片但是据相关信息。

7、EUV使用了135纳米的极紫外线激光源，比193纳米深紫外线光源的DUV光刻机能力更强纳米符号nm，即为毫微米，是长度度量单位1纳米=10的负9次方米1纳米相当于4倍原子大小，比单个细菌的尺寸还要小得多由于纳米。

8、目前的技术五纳米能够量产了，两纳米三纳米也应该不长时间就会被攻破根据这个科技的发展规律，三纳米了纳米被攻破之后，一纳米也用不了多久理论上是这样，但是呢这还需要硬件的支持，就是光刻机的精度能做到什么程度或。