1、目前能制造高端光刻机的好像只有中国，荷兰镜头来自德国和日本光刻机又称掩模对准曝光机，曝光系统，光刻系统等，一般的光刻工艺要经历硅片表面清洗烘干涂底旋涂光刻胶软烘对准曝光后烘显影硬烘刻蚀等。

2、2技术难度方面，光刻胶的目的主要有两个光刻胶原理，小孔成像，技术难度已攻破，难度小，光刻机装备的核心部件有光源镜头工作台，每个部件都结构复杂经过精心设计，难度大。

3、高水平根据查询大疆官网显示，大疆光刻机采用了可调焦镜头，可以适应不同芯片制造工艺的需求，同时也能够实现更高的精度和更小的线宽，是高水平机器。

4、以蔡司公司为例，为我们生产镜头，各种反光镜和其他光学部件，世界上没有一家公司能模仿他们此外，我们的机器完全装有传感器，一旦检测到有异常情况发生，Veldhoven总部就会响起警报”2长周期投入光刻机是典型到极致的。

5、一台光刻机有多难造？光刻机的制造难度非常大，可以说一台光刻机用到的零部件全是各个国家最先进的技术产品那我们就拿EUV的光刻机举例，有几吨重的镜头，而且还要确保无杂质，拥有纳米级别的分辨率如果镜头有任何缺陷。

6、能制造高端光刻机的只有荷兰ASML镜头来自德国，日本Nikonintel曾经购买过Nikon的高端光刻机和日本Canon三大品牌为主高端光刻机号称世界上最精密的仪器，世界上已有7000万美金的光刻机高端光刻机堪称现代光学工业之。

7、光刻机对镜头技术的要求很高，基本上达到了普通镜头的千万分之一，这就意味着芯片上的所有电路图除了依靠高科技手段之外，还需要有独特的光刻机研发技术，才可以使得芯片上的印制图案清晰准确虽然我国也有部分的光刻机，但。

8、光刻机又名掩模对准曝光机曝光系统光刻系统等，是制造芯片的核心装备它采用类似照片冲印的技术，把掩膜版上的精细图形通过光线的曝光印制到硅片上光刻机的种类可分为接触式曝光接近式曝光投影式曝光光刻机。