1、2纳米还是构想或许在先进实验室有原理能实现它，市面上并无能够商用的“光刻机”目前全世界最先进的制程还在3nm， 2nm的技术预计 2025年会投入商用所以预估最快2024年2纳米光刻机才会正式问世；3纳米台湾省的台积电最先进的光刻机目前支持3纳米光刻机lithography又名掩模对准曝光机，曝光系统，光刻系统等，是制造芯片的核心装备它采用类似照片冲印的技术，把掩膜版上的精细图形通过光线的曝光印制到硅片上。

2、官网显示，目前最先进的光刻机是600系列，光刻机中最高的生产工艺可以达到90nm然而，与荷兰ASML公司拥有的EUV掩模对准器相比，它可以通过高达5纳米的工艺制造而且3nm工艺制作的芯片即将上市不过根据相关信息，预计中国首；035μm英唐智控SZ9月23日在投资者互动平台表示，公司控股子公司英唐微技术拥有的5台光刻机主要为035μm制程工艺，目前处于正常生产经营中，可以满足英唐微技术对于模拟芯片产品的生产需要英唐微技术原名。

3、可以制造7纳米和5纳米的芯片TWINSCANNXT2000i是一款先进的光刻机，被广泛应用于芯片制造领域2000i光刻机采用了先进的曝光和显影技术，具备较高的分辨率和精度，实现对细微图形的刻画。

4、我国九十纳米的光刻机，在这个领域水平的应当属于一流水平但是还远远比不上国外的水平，毕竟国外的光刻机能够制作十纳米以内的芯片，而这一年我国目前还是远远无法做到的对此我国也正在努力进行追赶，但是短期之内还暂时无法；意思就是可以制造5nm芯片的机器光刻机又被称为掩膜对准曝光机，在芯片生产中用于光刻工艺，而光刻工艺又是生产流程中最关键的一步，所以光刻机又是芯片生产中不可缺少的设备，总得来说光刻机是用来制造芯片的5nm是指。

5、10纳米据etnews报道，其位于韩国利川的M16工厂的EUV光刻机，可以量产10nm，1a的DRAM的，所以韩国光刻机能造10纳米的东西光刻机是一种用于制作微电子元件的半导体制造设备，使用一种特殊的激光来制造微小的模式和图案，以。

6、它的工作原理其实就是按照物理来工作的原理，其实就是有机械力的推动，然后有一些独立可以促进他们的复刻，然后再进行运转。