1、从SMEE官方资料来看，该公司目前生产的光刻机最高分辨率只能达到90nm英特尔于2004年发布的奔腾4处理器就采用90nm制程工艺制造，也就是说，在光刻机领域，我国和西方国家还有20年左右的差距，全球半导体市场仍然以美国日本。

2、光刻机最先进的是90纳米纳米科技现在已经包括纳米生物学纳米电子学纳米材料学纳米机械学纳米化学等学科从包括微电子等在内的微米科技到纳米科技，人类正越来越向微观世界深入，人们认识改造微观世界的水平提高到。

3、该光刻机由中国科学院光电技术研究所研制，光刻分辨力达到22纳米光刻机一般根据操作的简便性分为三种，手动半自动全自动手动指的是对准的调节方式，是通过手调旋钮改变它的X轴，Y轴和thita角度来完成对准，对准精度。

4、光刻机现在最小几纳米可以达到5纳米 随着科技的不断发展，光刻机的最小纳米数也在不断减小目前，光刻机已经可以最小达到5纳米的纳米级加工水平，这是一个非常令人瞩目的成就这使得在各种高科技领域中，如半导体光。

5、查询官网可以知道，如今最先进的光刻机是600系列，光刻机最高的制作工艺可以达到90纳米但是相比于荷兰ASML公司旗下的EUV光刻机，最高可以达到5纳米的工艺制作而且即将推出3纳米工艺制作的芯片但是据相关信息透露，预计。

6、5纳米根据查询光明网显示，截止时间2023年10月2日，世界光刻机釆用finfet工艺，能做到5nm以下光刻机又叫掩模对准曝光机曝光系统光刻系统等，是制造芯片的核心装备。

7、3纳米根据查询百度百科信息显示，截止2023年10月18日最顶尖的光刻机是ASML的EUV光刻机，其能够制造3纳米的芯片，在ASML的规划中，到2024年或2025年会交付全新一代的HighNA极紫外光刻机。

8、分辨率通常七纳米至几微米之间，高端光刻机号称世界上最精密的仪器，世界上已有12亿美金一台的光刻机高端光刻机堪称现代光学工业之花，其制造难度之大，全世界只有少数几家公司能够制造。

9、国产光刻机90nm蚀刻机达到了5nm水平，光刻机仍然是处于90nm水平，2018年时中科院的“超分辨光刻装备研制”通过验收，它的光刻分辨力达到22nm，结合双重曝光技术后，未来还可用于制造10nm级别的芯片但是这仅限于实验室阶段。

10、中国光刻机能产几纳米最新成果展示 据近日消息，中国光刻机取得了重大突破，在芯片制造工艺中实现了更高层次的精度目前，中国光刻机已经实现了可以生产7纳米线宽的水平，并在分辨率和可制造性等方面取得了显著的进步这。