中国有自己的光刻机 由中国科学院光电技术研究所承担的国家重大科研装备研制项目“超分辨光刻装备研制”通过验收，这是世界上首台用紫外光实现了22nm分辨率的超分辨光刻装备，为纳米光学加工提供了全新的解决途径 在光电所。

我国光刻机发展还是不错的2020年，“就算给你完整图纸，你也造不出来光刻机”2022年1月，“中国不太可能独立研制出顶级光刻技术，但也不是说绝对不行因为我知道物理定律在中国和这里是一样的，永远不要说永远，他。

华为有光刻机华为作为中国科技巨头，不仅在手机通信等领域取得了不俗的成就，还在芯片研发方面默默发力华为曝光了一款神秘的自研光刻机，这款华为自研光刻机采用了最先进的技术，可实现更精细的制程工艺，并且具有高精度。

我们收不动，大约也只能自家研发，透过新闻报道，我们可以看到，我们走了一条不同的路，取得了更高的精度，有称世界首台用紫外光源实现22纳的EUV，采取多次曝光技术可以实现10纳，我们不吹，10纳以下是一个级别，所以7纳亦。

它既可以自主研发又可以制造芯片，基本上垄断了行业芯片但是反观中国目前的光刻机仍不能达到制作高端芯片的要求，技术还很落后一如今国内光刻机能达到多少纳米的工艺制作查询官网可以知道，如今最先进的光刻机是600系列。

光刻机已经交付了光刻机是芯片制造的关键设备，其工作原理基于光学技术和化学技术，光刻机通过紫外线光来投影图像，并通过光学系统将图像转移到特定的基板表面上高端光刻机的制造难度丝毫不亚于原子弹，放眼全球，也只有。

国内研发的光量子芯片在硅基芯片的基础上，利用光学和量子计算等知识进行整合，令芯片的精准度更高，使用稳定性更好，且信息留存度强，能够在恶劣环境下保持正常使用最主要的是， 这类芯片的生产研发完全不需要高端光刻机。

我国九十纳米的光刻机，在这个领域水平的应当属于一流水平但是还远远比不上国外的水平，毕竟国外的光刻机能够制作十纳米以内的芯片，而这一年我国目前还是远远无法做到的对此我国也正在努力进行追赶，但是短期之内还暂时无法。

导致中国光刻机的起步晚资金投入少人才也相对不足，这些都是需要解决的问题除非由国家牵头并且进行人才资源的相关倾斜，否则国产光刻机最多也就能达到中端水平，基本上不具备追赶上ASML公司的可能性。

第三，目前国产最先进的光刻机，应该是22nm根据媒体报道，在2018年11月29日，国家重大科研装备研制项目“超分辨光刻装备研制”通过验收该光刻机由中国科学院光电技术研究所研制，光刻分辨力达到22纳米请注意该报道的标题。

这家公司成立于2002年3月，是在国家科技部和上海市政府共同推动下，由国内多家企业集团和投资公司共同投资组建的高科技技术公司，是生产芯片光刻机的国内唯一企业，也是国家重点扶持科技项目目前主要致力于大规模工业生产的中。

中国光刻机能产几纳米最新成果展示 据近日消息，中国光刻机取得了重大突破，在芯片制造工艺中实现了更高层次的精度目前，中国光刻机已经实现了可以生产7纳米线宽的水平，并在分辨率和可制造性等方面取得了显著的进步这。

这一研发的成功，也打破了美国市场对于中国光刻机的垄断，赢得了国内技术的独立与发展随着上海微电子的封装光刻机进入国产厂商生产线，对于提升国产芯片自给率，降低国外芯片进口依赖有了更大的帮助因为封装光刻机也是制造。

继续为中国尽快推动，研发更好的状态 对于中国的这个芯片技术，我觉得它的销量越来越好了，他们的那种辉煌已经成为了过去式，而中国的心态开始成为了现在的未来目前我们对于这个技术的研发还是比较高端的，我们的光刻机也已经。

中国日本荷兰在能够制造机器的这几家公司中，尤其以荷兰ASML技术最为先进价格也最为高昂光刻机的技术门槛极高，堪称人类智慧集大成的产物目前在全球45纳米以下高端光刻机市场当中，荷兰ASML市场占有率达到80%。