在几个月前，上海微电子装备（集团）股份有限公司（SMEE）宣布与之签署战略合作备忘录。

　　高端光刻机基本依赖进口

　　目前全球高端光刻机市场基本被荷兰ASML垄断，最先进的EUV光刻机全球仅仅ASML能够生产——Intel、三星、台积电用来加工10nm芯片的光刻机都是购买自ASML。

　　ASML EVU光刻机

　　相比之下，国内光刻机厂商则显得非常寒酸，中国在该项技术上，并非落后于某一个国家，而是在与整个西方的高端精密制造实力相较量。

　　国内单位在光刻机领域取得突破

　　成都光机所找到了一条能够绕开传统的193nm曝光的技术路线，这种光刻机可以实现单次成像达到22纳米水平，如果结合多重曝光技术，就可以用于制备10纳米以下的信息器件。

　　去年5月，清华大学召开了“光刻机双工件台系统样机研发”项目验收会，该双工件台系统的关键技术指标已达到国际同类光刻机双工件台水平。

　　由长春光机所牵头承担的国家科技重大专项02专项——“极紫外光刻关键技术研究”项目顺利完成验收前现场测试。根据官方披露的消息，计划在2030年实现EUV光刻机的国产化。

　　多项举措有利于提升本土技术实力

　　在今年3月，上海微电子装备（集团）股份有限公司与ASML签署战略合作备忘录。

　　未来，这个培训中心将拥有多款ASML的光刻设备和检测设备，也将逐步对国内半导体行业企业内的光刻工程师开放。这将大幅提高中国集成电路产业在高端和专业技术人才方面的培养力度。这对国内工程师熟悉设备工艺，提升光刻技能与专业知识具有积极的促进作用。