SanjayNatarajan确认，英特尔4nm光刻机会在2023年出货四纳米光刻机是3D打印机，是首个使用EUV光刻机的工艺，是一款超紧凑超高分辨率交钥匙型3D打印机；ASML取消部分对华光刻机订单 近日，荷兰光刻机巨头ASML公司宣布取消部分对华的光刻机订单，这一决定引发了业界广泛的关注和讨论ASML作为全球领先的光刻机制造商，其决定对全球半导体供应链具有深远的影响光刻机是半导体。

SMEE光刻机研发成功的意义上海微电子公司所研发的“SMEE光刻机”是一台性能堪比先进光刻机的制造设备，其光刻效果能够满足生产高质量的芯片这一研发的成功，也打破了美国市场对于中国光刻机的垄断，赢得了国内技术的独立与；国产光刻机90nm蚀刻机达到了5nm水平，光刻机仍然是处于90nm水平，2018年时中科院的“超分辨光刻装备研制”通过验收，它的光刻分辨力达到22nm，结合双重曝光技术后，未来还可用于制造10nm级别的芯片但是这仅限于实验室阶段。

众所周知，生产高端芯片的关键在于光刻机，而凭中国现在的技术是无法自己制造可以生产5nm芯片的光刻机的目前世界上最先进的5nm光刻机来自荷兰的ASML，这是全球唯一一家可以向芯片生产商提供最先进极紫外光刻机的厂商，其；实际上中国能制造光刻机，只是不能制造先进光刻机在2021年的时候，中国就有企业宣布制造出了能生产24nm芯片的光刻机这个水平放到国际上大概是2013年到2015年的水平，而在2021年时国际领先水平是5nm芯片单论先进光刻。

中国光刻机180nm

4 ASML公司的EUV光刻机 ASML公司是全球领先的EUV光刻机制造商之一，其制造的EUV光刻机可以实现5nm芯片的制造这些设备由于技术领先，因此价格不菲，约为1亿美元，但它们是制造高效，高质量芯片的必要条件5 EUV光刻。

中国光刻机14nm

第一，光刻机 目前，ASML荷兰Nikon日本尼康Canon日本佳能共同组成了光刻机三巨头目前拥有顶级芯片制造能力的台积电三星等的7nm光刻机基本都来自ASML虽然中国目前可以生产处光刻机，但与三巨头的差距太。

其次是EUV光刻机，作为生产高端芯片必不可少的设备，英特尔表示会成为ASML下一代HighNA EUV光刻机技术的主要客户HighNA EUV光刻机有很强的电路分辨率能力，且价格是普通EUV光刻机的3倍左右预计将用于生产传统3nm及。