90纳米封装光刻机在国内市场已占据不小的份额，这是国产光刻机取得的进步然而在代表着光刻机技术水平的晶圆制造光刻机方面，上海微装可生产加工90nm工艺制程的光刻机，这是国产光刻机最高水平，而ASML如今已量产7nm；光刻机现在最小几纳米可以达到5纳米 随着科技的不断发展，光刻机的最小纳米数也在不断减小目前，光刻机已经可以最小达到5纳米的纳米级加工水平，这是一个非常令人瞩目的成就这使得在各种高科技领域中，如半导体光电。

光刻机的最新消息如下1上微中科院走ASML路线，全程规避美规采用1X千瓦60Khz的超高重复频率二氧化碳激光打靶2广智院与华中科技大学，采用分时高功率光纤激光器射击液态锡靶的方式绕开超高功率超高重复频率。

最小的光刻机是多少纳米

提问者所说的中国光刻机达到世界先进水平，应该是指2018年11月29日通过验收的，由中国科学院光电技术研究所主导经过近七年艰苦攻关研制的“超分辨光刻装备”项目该项目下研制的这台光刻机是“世界上首台分辨力最高的紫。

比较厉害1高集成度035纳米的最小工艺可以制造出非常小的芯片线宽，从而实现更高的集成度，使得芯片可以容纳更多的晶体管和电路，提高了芯片的性能和功能2低功耗035纳米的最小工艺可以制造出更小的晶体管。

可能大家的目光被台积电和ASML阿斯麦吸引住了，以为芯片不用5nm工艺制程制造，都不好意思说自己是芯片，没有极紫外EUV光刻机，都不能说自己是芯片制造大厂90nm国产光刻机是目前我国最先进的光刻机，属于国家重大。

最小的光刻机是几纳米

1、1981年，中国科学院半导体所研制成功JK1型半自动接近式光刻机1982年，科学院109厂的KHA751光刻机，这些光刻机在当时的水平均不低，最保守估计跟当时最先进的canon相比最多也就不到4年1985年，机电部45所研制出。

2、造光刻机难的原因有1西方国家的技术封锁在光刻机领域，荷兰是最有发言权的，我国很早以前就跟他们取得联系，并且希望进行相关合作，若是双方进行合作的话，很容易就能解决技术问题，可是美国却总是从中作梗，要求荷兰。

3、光刻机是目前世界上最尖端的设备技术之一，而一台7纳米的光刻机价格非常昂贵，价格高达12亿美元，甚至12亿美元的光刻机，也是供不应求。