那么，中国光刻机现在多少纳米中国高端光刻机什么时候能研制出来一中国光刻机现在多少纳米2018年3月，上海微电子的90nm光刻机项目通过正式验收也就是说，我们的国产光刻机目前可以做到90纳米工艺之前有网友爆料；现在世界上顶级的设备毋庸置疑就是ASML的5纳米光刻机这台机器如果一一拆分开来的话可以装进大约40个集装箱之中，超过万个零件的总数量在机器领域绝对算得上是庞然大物而且这10万个零件之中，精密仪器顶级光源。

实现了“用中国人的光刻机造中国芯”的梦想光刻机是一个由几万个精密零件几百个执行器传感器千万行代码组成的超复杂思维系统，要制造出光刻机，不仅仅需要科学技术上的攻关突破，还需要将大量的技术集成起来。

中国自主光刻机公司

时间来到现今的2022年，“研究”水平已经比产品水平高了，“研发”更高水平光刻设备的技术积累这个底子增厚了一些中国光刻机产品研究已经达到了“中端水平”国产DUV光刻机产品很快就能成批推出规模采用，据报道上海微。

它采用类似照片冲印的技术，把掩膜版上的精细图形通过光线的曝光印制到硅片上2018年11月29日，国家重大科研装备研制项目“超分辨光刻装备研制”通过验收该光刻机由中国科学院光电技术研究所研制，光刻分辨力达到22纳米光。

这家公司成立于2002年3月，是在国家科技部和上海市政府共同推动下，由国内多家企业集团和投资公司共同投资组建的高科技技术公司，是生产芯片光刻机的国内唯一企业，也是国家重点扶持科技项目目前主要致力于大规模工业生产的中。

而如今光刻机打破7纳米这一生产极限，是产业竞争最新的战略制高点中国在发展光刻机方面的成功也促成了技术创新和国际产业分工的加强目前，中国已经能够自主开发生产一款全新的光刻机，并借此提高半导体产业的制造技术在未来。

也就是22nm的光刻机，已经是重大突破22nm的光刻机，关键部件已经基本上实现了国产化“中科院光电所此次通过验收的表面等离子体超分辨光刻装备，打破了传统路线格局，形成一条全新的纳米光学光刻技术路线，具有完全自主知识。

中国自主光刻机量产

面对这一局面，中国政府已经出台了一系列的政策，支持国内的半导体产业发展中国正在积极推进自主创新，加大投入力度，建设自主可控的芯片生态系统目前，中国的一些芯片制造企业也在积极研发EUV光刻机，以期实现国产化性能指标。