目前，虽然尼康佳能等对手都在勉力竞争，但是自飞利浦独立的阿斯麦公司掌握了90%以上的高端光刻机市场份额精度愈高的光刻机，能生产出纳米尺寸愈小功能更强大的芯片世界最新最先进的两代高端光刻机领域，即浸入式。

根据公告，阿斯麦上海是ASML Holding NV的附属公司之一而荷兰公司ASML是全球最大的光刻机制造商，光刻机是芯片制造所需的关键设备ASML在45nm以下制程的高端光刻机市场中占有85%的份额在EUV极紫外光刻机领域则。

过去，中国的光刻机只能达到50纳米的生产精度，然而近年来，把握机遇，大力发展技术，中国光刻机顺利实现了25纳米和18纳米的生产精度，成功将产业链推向更高层面而如今光刻机打破7纳米这一生产极限，是产业竞争最新的战略。