另外，华为还一直在不断研发量子芯片，可以不用光刻机“造芯”，在量子芯片领域，一直都不被外媒所看好，但华为很早就已经进入了量子芯片领域研发毕竟现在的半导体芯片的发展都是需要遵守摩尔定律的，当发展到1nm极限以后。

世界的光刻机水平实际上中国能制造光刻机，只是不能制造先进光刻机在2021年的时候，中国就有企业宣布制造出了能生产24nm芯片的光刻机这个水平放到国际上大概是2013年到2015年的水平，而在2021年时国际领先水平是5nm。

根据台媒报道， 台积电将联手日本芯片产业共同冲刺2nm芯片 日本虽然没有先进的晶圆代工厂，但是日本在先进工艺的上游却占有很重要的位置以国内用户最为熟悉的EUV光刻机为例，众所周知，全球只有ASML一家公司拥有生产。

1性能，2nm芯片相比较5nm芯片性能来说，对EUV光刻机的依赖性更强，2nm芯片制造步骤要比5nm芯片少很多2功能，2nm芯片相比较5nm芯片功能来说，2nm芯片可以大大提高笔记本电脑的功能，从程序中更快的处理，到更容易。