1、造成这一系列结果，归根结底还是因为我国半导体企业无法自己批量生产芯片众所周知，生产高端芯片的关键在于光刻机，而凭中国现在的技术是无法自己制造可以生产5nm芯片的光刻机的目前世界上最先进的5nm光刻机来自荷兰的ASML；国内唯一一台7nm光刻机在武汉弘芯中芯国际所采购的ASML光刻机设备，只能够实现14nm芯片量产，国内最先进的光刻机设备并不是中芯国际目前所使用的光刻机设备，而是武汉弘芯在2019年12月所购得的7nm光刻机，当时武汉弘；光刻机国产排名第一的是上海微电子目前全球只有四家能够制造光刻机的公司，分别是荷兰阿斯麦尔日本尼康和佳能中国上海微电子这里说的光刻机指的是euvduv浸润式光刻机所以说，国内仅有一家能够制造光刻机的公司。

2、摘要光刻机是制造芯片的关键设备，是世界上最复杂的精密设备之一，也是工时和成本占比最高的设备，更是全球顶尖技术和人类智慧的结晶，目前世界上只有3个国家有能力制造出光刻机，我国就是其中一个那么，中国光刻机现在；现在高通，台积电都已经向10纳米，7纳米进军了，可想而知差距非常大堵在中国芯片制造业前面最大的拦路虎不是材料，也不是技术，而是光刻机成套设备，而世界上只有日本的索尼，佳能，荷兰能掌握高端光刻机制造，而最好的是。

3、总之，中科院的22纳米分辨率光刻机跟ASML垄断的光刻机不是一回事，说前者弯道超车，就好像说中国出了个竞走名将要超越博尔特显然，中科院研制成功的这台“超分辨光刻装备”并不能说明我国在市场主流的的光刻机研制方面已经；中国加快了芯片的国产化，未来芯片的发展应该是多种技术并行，现在制造高精度的芯片主要就是通过光刻机，显然未来光刻机也是非常非常重要的一环，但是应该会有其他的技术出现不单纯指望这个光刻机，因为两纳米之后的路到底怎么。

4、回购光刻机指的是中国芯片企业要求ASML回购已经购买的700台光刻机光刻机，又名掩模对准曝光机曝光系统等，是制造芯片的核心装备光刻机采用类似照片冲印的技术，能够把掩膜版上的精细图形通过光线的曝光印制到硅片上；中国光刻机能产几纳米最新成果展示 据近日消息，中国光刻机取得了重大突破，在芯片制造工艺中实现了更高层次的精度目前，中国光刻机已经实现了可以生产7纳米线宽的水平，并在分辨率和可制造性等方面取得了显著的进步这。