1光刻机可以分为用于生产芯片用于封装和用于LED制造按照光源和发展前后,依次可分为紫外光源UV深紫外光源DUV极紫外光源EUV,光源的波长影光刻机的工艺光刻机可分为接触式光刻直写式光刻投影式;1 什么是EUV光刻机EUVExtreme Ultraviolet光刻机是一种用于制造高端芯片的先进设备与传统光刻机不同的是,EUV光刻机使用的是极紫外光源,具有更短的波长和更高的分辨率,能够制造尺寸更小的芯片,如5nm芯片2。

而asml的光刻机已经达到5nm量产的水平因此,目前我国光刻机水平无法动摇其地位若日后我国光刻技术突破,而asml仍旧无法找到更先进制程的方法,那么将会威胁其发展但一般而言这很难说,技术会一直进步下去;四月初,俄罗斯莫斯科电子技术学院 MIET获得了俄罗斯贸工部一个67亿卢布约5100万人民币用于研发新一代EUV光刻机的合同,行业都觉得用这么少的钱想要研发光刻机不可能,因此引起业界热议,详情请看笔者撰写的重磅。

大部分人可能觉得,这又不是7nm,5nm,没有多少先进的技术 但是在一些逻辑芯片,存储器,14nm以上的制程工艺,还是大量的应用工艺 例如日本东芝仍然是全球存储的主要供应商 佳能1970年制造的第一台光刻机 在芯片领域,日本通过多年的;光刻机 首先是光刻机,如果华为想要自主制造芯片,就要解决光刻机的问题而且不是一般的光刻机,考虑到华为麒麟9000采用了5nm的工艺,因此需要EUV光刻机而全球唯一能生产EUV光刻机的企业是荷兰ASMLASML目前还不具备向。

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华为砍掉台积电5nm芯片订单量,理由其实很简单,就是手机销售受到冲击,销量不如预期,因此必须削减部分芯片订单明面上,这仅仅是一个商业决定可背后,却有很复杂的原因这对于华为手机突飞猛进的步伐,无疑是一个打击。

1nm等于00000001cm,而5nm7nm的宽度可想而知,小到我们用肉眼可能根本无法辨别这样的数据其实在日常生活中很常见,对手机有一定了解的人就知道,有一些品牌在为自己的手机做宣传工作的时候,就会说自己采用了多少nm的。

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极紫外光刻EUV使用波长更短的激光135nm,相对于深紫外光刻,需要重新研发刻蚀材料光刻胶刻蚀工艺等等,对精度的要求进一步提高,目前只有荷兰ASML一家公司能制造极紫外光刻机而且西方国家对我国的技术打压是。