1、中国的企业在光刻机领域的研发能力也在不断提升例如，中微半导体公司自主研发的光刻机已经实现了量产，并成功应用于多个芯片制造企业此外，国内的其他企业也在积极开展相关技术研究和开发工作，不断提升自身的技术水平和市场。

2、光电所SP光学光刻机就是绕开了传统的193纳米曝光的技术路线，利用长波长光源也可以得到一个突破衍射极限的分辨率的图形，所以在成本上安全性方面上都会有一个很大的提升，是完全具有知识产权的原创性技术我以前了解过，光刻。

3、其中光电芯片就已经成为了很多国家 科技 团队所研发的重点，只要下一代芯片技术取得突破，那么依赖于光刻机的半导体芯片也将被逐步淘汰所以综合来看，在未来的芯片市场上，光刻机不会再那么的重要，而ASML公司也不会再一家。

4、欧美国家对于该设备的技术一直都是防备有加，现阶段都还没哪一个国家可以独自造出光刻机，表面上是由荷兰的ASML企业生产制造的。

5、中国光刻机现在达到了22纳米在上海微电子技术取得突破之前，我国国产的光刻机一直停留在只能制造90nm制程的芯片这次我国直接从90nm突破到了22nm也就意味着我国在光刻机制造的一些关键核心领域上已经实现了国产化而自己。

6、因此有不少网友表示，难道华为一个搞芯片设计的，两年时间就能突破光刻机确定不是“口嗨”首先 ，华为从来没有说过自己要做光刻机有关华为做光刻机的传闻是因为华为招聘光刻机工艺工程师引起的 但是大部分人可能。

7、同理就算中科院的论文讲的是5nm光刻机技术，想要完全实现商用不知道还要多久中国和荷兰ASML的差距最起码也在十年以上现在国内最好的光刻机生产企业应该是上海微电子，目前生产的最好光刻机也只是90nm的制程尽管有传言说。

8、有关报道中的“全新的技术”，也就是中国科研工作者在关键部件完全国产化情况下，实现的这一次技术突破 中国和世界顶尖光刻机制造还有很大差距华为麒麟受制于人，中芯国际不堪大用，澎湃芯片久不见进展，虎愤芯片勉强能用。

9、我国待突破的封锁线是第三道，是目前为止的最后一道，即对目前为止属于世界领先水平的高端光刻机技术和产品的封锁现在和在将来的一个时期内，我国企业买不来EUV光刻机产品，我国的光刻机企业更买不来EUV技术，这是由于。

10、至此，也就解释了光刻机的突破，从时间上来看，根本就是个无法预测的事情了高端光刻机技术中国已经攻克了攻克了技术离量产还需要时间光刻机技术不算是前沿技术但很麻烦周期长技术是周期短的带动周期长的中国光刻。