亚微米级的cmos工艺的掩模版的设计流程如下光刻机就是用光来雕刻的机器，是用来实现光线侵蚀光刻胶的目的所以说，光刻机就是把很大的电路图，通过透镜缩小到芯片那么大，然后用光线侵蚀掉光刻胶，达到自动形成电路的。

光刻机Mask Aligner又名掩模对准曝光机，曝光系统，光刻系统等，是制造芯片的核心装备它采用类似照片冲印的技术，把掩膜版上的精细图形通过光线的曝光印制到硅片上光刻机一般根据操作的简便性分为三种，手动半。

1光刻机，是现代光学工业之花，是半导体行业中的核心技术可能有很多人都无法切身理解光刻机的重要地位光刻机，是制造芯片的机器要是没有了光刻机，我们就没有办法造出芯片，自然也就不会有我们现在的手机电脑。

光刻机国产排名第一的是上海微电子目前全球只有四家能够制造光刻机的公司，分别是荷兰阿斯麦尔日本尼康和佳能中国上海微电子这里说的光刻机指的是euvduv浸润式光刻机所以说，国内仅有一家能够制造光刻机的公司。

1难在它的制造精度，为了便于形象地解释，光刻机制造芯片的过程就相当于“冲洗照片”设计好的集成电路的电路图相当于照片的“拍摄的内容”，晶圆就相当于“相纸”，光刻机的其它机构就相当于与照相机的“镜头机构”2。

蚀刻机和光刻机其实就是完全不同的两种设备，不论从功能还是结构上来说都是天差地别，光刻机是整个芯片制造过程中最为核心的设备，芯片的制程是由光刻机决定的，而不是蚀刻机具体如下1工作原理 如果把制造芯片。

区别1 工作原理接近式光刻机是通过将掩模与光刻胶直接接触，然后使用紫外光照射来进行图案转移而步进式光刻机是通过将掩模与光刻胶分开，然后使用光束扫描的方式进行图案转移2 精度接近式光刻机通常具有较高的。

中国有自己的光刻机，由中国科学院光电技术研究所承担的国家重大科研装备研制项目“超分辨光刻装备研制”通过验收，这是世界上首台用紫外光实现了22nm分辨率的超分辨光刻装备，为纳米光学加工提供了全新的解决途径在光电所的。

中国日本荷兰在能够制造机器的这几家公司中，尤其以荷兰ASML技术最为先进价格也最为高昂光刻机的技术门槛极高，堪称人类智慧集大成的产物目前在全球45纳米以下高端光刻机市场当中，荷兰ASML市场占有率达到80%。