好京东光刻机又名掩模对准曝光机曝光系统光刻系统等，是制造微机电光电二极体大规模集成电路的关键设备模板与图样大小一致的contactaligner，曝光时模板紧贴晶圆非常好。

我国九十纳米的光刻机，在这个领域水平的应当属于一流水平但是还远远比不上国外的水平，毕竟国外的光刻机能够制作十纳米以内的芯片，而这一年我国目前还是远远无法做到的对此我国也正在努力进行追赶，但是短期之内还暂时无法。

1难在它的制造精度，为了便于形象地解释，光刻机制造芯片的过程就相当于“冲洗照片”设计好的集成电路的电路图相当于照片的“拍摄的内容”，晶圆就相当于“相纸”，光刻机的其它机构就相当于与照相机的“镜头机构”2。

光刻机Mask Aligner 又名掩模对准曝光机，曝光系统，光刻系统等常用的光刻机是掩膜对准光刻，所以叫 Mask Alignment SystemPhotolithography光刻 意思是用光来制作一个图形工艺在硅片表面匀胶，然后将掩模版。