印度没有光刻机技术光刻机涉及多学科多专业门类，印度工业基础不行，许多工业专业生产都不能完成，光刻机又要求专业高度精密先进，印度根本无法独自完成光刻机lithography又名掩模对准曝光机，曝光系统，光刻系统等。

5 光刻机的优缺点 光刻机的优点在于可以进行高精度的微细加工，从而制造出性能更好的芯片产品此外，光刻机还可以实现快速生产，提高生产效率但是，光刻机的缺点在于设备价格比较昂贵，技术维护难度较大，需要高度专业化。

现在很多人说，当年造光刻机比造原子弹还难是的，这绝对是真的现在信息发达科技进步先进的设备有很多专业人士有高深的知识，却做不出光刻机难度显而易见这里有个问题要说明一下中国也能做芯片，但是质量。

中国光刻机历程 1964年中国科学院研制出65型接触式光刻机1970年代，中国科学院开始研制计算机辅助光刻掩膜工艺清华大学研制第四代分部式投影光刻机，并在1980年获得成功，光刻精度达到3微米，接近国际主流水平而那时，光。

由此可见，这些学科方向 完整覆盖集成电路全产业链 ，不得不说，这是个好消息，尤其是在 光刻机制造 上我们都知道，华为不缺芯片设计， 缺的就是光刻机技术 ，如果清华大学能在这一块实现突破的话，无疑是。