时间来到现今的2022年，“研究”水平已经比产品水平高了，“研发”更高水平光刻设备的技术积累这个底子增厚了一些中国光刻机产品研究已经达到了“中端水平”国产DUV光刻机产品很快就能成批推出规模采用，据报道上海微。

制造芯片的三大设备光刻机蚀刻机和薄膜沉积，国内仅中微半导体的介质蚀刻机能跟上行业节奏，其7纳米设备已入围台积电名单 北方华创在氧化炉和薄膜沉积设备上成绩不俗，但基本还处于28纳米级别其他设备，如离子注入机抛光机和清洗机。

中微半导体公司成功研制了5纳米等离子蚀刻机经过三年的发展，中微公司5纳米蚀刻机的制造技术更加成熟该设备已交付台积电投入使用 上海微电子已经成功研发出我国首款28纳米光刻机设备，预计将在2021年交付使用，实现了光刻机技术从无到。

5nm高端刻蚀机刻蚀机在精密定位和环境控制等技术方面的要求较低，其技术要求和门槛也比光刻机更低不过它们皆为芯片制造环节中的重要设备，它们的发展无疑是我国半导体产业国产化水平的重要指标之一中微半导体生产的5nm蚀。

光刻胶的表面层是光致抗蚀剂，光敏材料将在曝光后降解 “蚀刻”是实际上沿着光致抗蚀剂的表面显影以在晶片上雕刻电路图的图案半导体芯片设备蚀刻机在芯片制造领域处于国内替代的最前沿有三个核心环节，分别是薄膜沉积。