在硅基芯片上摩尔定律已经接近了天花板，人们不断在寻找新的材料来突破碳基芯片遇到的这个瓶颈，目前最先进的碳纳米管制造的就是非常理想的晶体管材料，基于碳纳米管制造的碳基芯片并不需要光刻机硅基芯片和碳基芯片的生产；三星是比较喜欢率先使用最新的技术来抢占首发的，在7nm工艺时就率先使用了EUV光刻机，台积电N7和N7P仍使用的是DUV+SAQP光刻的方式，在工艺上此时三星是领先一些，但由于三星使用的是DDB双扩散工艺，相比台积电的SDB但扩散工艺。

光刻机scanner

回答李国杰 一 中国信息化与信息基础设施建设 “以信息化带动工业化，以工业化促进信息化”已确定为中国发展经济的基本战略之一到目前为止，中国政府已确定12项重点信息化工程，称为“金字工程”，包括办公业务资源宏观政策。

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光刻机有几代

57本文从投影光刻机的图形传递要求出发，导出投影光刻机各主要光学系统的具体要求，并讨论这些参数确定的 局限性 58结果睾丸精原细胞瘤多表现为 局限性 低回声，瘤体内血流信号丰富，形态不规则，多呈分支状 59采用一种基于等效。