光刻机是芯片制造流程中，光刻工艺的核心设备光刻机Mask Aligner，又名掩模对准曝光机曝光系统光刻系统等，是制造微机电光电二极体大规模集成电路的关键设备光刻机的主要...

一般来说是用激光比如说要在玻璃上刻蚀图形，大致步骤为清洗玻璃干燥在玻璃上涂覆光致抗蚀剂即光刻胶有正性和负性之分干燥固化曝光方式很多，如激光直写通过掩模板同时曝光等去胶光刻...