1、常用的光刻机是掩膜对准光刻，所以叫 Mask Alignment System一般的光刻工艺要经历硅片表面清洗烘干涂底旋涂光刻胶软烘对准曝光后烘显影硬烘刻蚀等工序Ph...

光刻机是芯片制造流程中，光刻工艺的核心设备光刻机Mask Aligner，又名掩模对准曝光机曝光系统光刻系统等，是制造微机电光电二极体大规模集成电路的关键设备光刻机的主要...