刻蚀是通过光刻胶暴露区域来去掉晶圆最表层的工艺，主要目标是将光刻掩膜版上的图案精确地转移到晶圆表面蚀刻机和光刻机其实就是完全不同的两种设备，不论从功能还是结构上来说都是天...