1、俄罗斯的光刻机技术目前处于90纳米水平光刻机是半导体制造过程中的核心设备，用于将芯片上的图案转移到硅片上光刻机的精度，通常以纳米为单位进行衡量，决定了晶体管的尺寸，进...