该光刻机由中国科学院光电技术研究所研制，光刻分辨力达到22纳米光刻机一般根据操作的简便性分为三种，手动半自动全自动手动指的是对准的调节方式，是通过手调旋钮改变它的X轴，Y...

面对美国公布的一系列针对中国半导体产业的最新出口管制措施，ASML首席财务官达森称，美国新法规对公司光刻机的出口影响是有限的，因为ASML是一家欧洲公司，其机器中使用的美...