在实际制造中，它主要的作用是通过机械研磨和化学液体溶解“腐蚀”的综合作用，对被研磨体半导体进行研磨抛光 6光刻机 又名掩模对准曝光机曝光系统光刻系统等，常用的光刻机是掩膜...

一光刻机的作用因为一些特殊发展原因导致我国光刻机发展水平低于欧美国家一些核心领域使用的半导体光刻机，不得不从国外引进由于完全依赖西方产品，导致国内市场半导体行业受到影响上...